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POLISHING COMPOUNDS

POLISHING COMPOUNDS

Polishing Compounds
Diamond Tools
Optical Glass
Others Products

Shorox Series

연마재001

> 제품 설명

우수한 표면과 좋은 품질을 유지하면서 매우 높은 연마력을 달성하는 특수 기법에 의해 생산되는 연마재(CeO2)입니다.

> 적용

주로 고속 구면 용으로 대량 생산에서 사용, 난시교정용 소프트렌즈와 정밀 광학산업에도 적용가능. 모든 유형의 패드와 잘 맞지만, 폴리우레탄 소재의 패드와 사용할 때 특히 탁월합니다.

> 사용법

권장 시작 농도는 6 Baume(1.037 비중 또는 리터당 50g)필요시 조정가능합니다. 수소 농도 제어는 불필요합니다.

> 주의사항

일반적인 산업상 주의 바랍니다.

KIIRAIT.A

lapping_p1KIIRAIT A는 알루미나 광석을 전기 로에서 용해하여 만들어지는 인조 연마재의 대표적인 제품입니다. 비중은 3.9로써 무겁고, NOOP 2070, MICROBICAS 2000으로 경도가 높습니다. 또한, 전기열연성이 크고 산, 알칼리에 강하여 화학적으로 불활성입니다.
*용도 : 실리콘 웨이퍼, 광학 유리, 광학 플라스틱, 포토마스크, 수정, 일반 유리, 일반 금속의 래핑
lapping_p2
lappingpowder
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Shorox Series

연마재001

> 제품 설명

우수한 표면과 좋은 품질을 유지하면서 매우 높은 연마력을 달성하는 특수 기법에 의해 생산되는 연마재(CeO2)입니다.

> 적용

주로 고속 구면 용으로 대량 생산에서 사용, 난시교정용 소프트렌즈와 정밀 광학산업에도 적용가능. 모든 유형의 패드와 잘 맞지만, 폴리우레탄 소재의 패드와 사용할 때 특히 탁월합니다.

> 사용법

권장 시작 농도는 6 Baume(1.037 비중 또는 리터당 50g)필요시 조정가능합니다. 수소 농도 제어는 불필요합니다.

> 주의사항

일반적인 산업상 주의 바랍니다.

KIIRAIT.A

lapping_p1KIIRAIT A는 알루미나 광석을 전기 로에서 용해하여 만들어지는 인조 연마재의 대표적인 제품입니다. 비중은 3.9로써 무겁고, NOOP 2070, MICROBICAS 2000으로 경도가 높습니다. 또한, 전기열연성이 크고 산, 알칼리에 강하여 화학적으로 불활성입니다.
*용도 : 실리콘 웨이퍼, 광학 유리, 광학 플라스틱, 포토마스크, 수정, 일반 유리, 일반 금속의 래핑
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